PFA取樣瓶100ml250mlPFA樣品瓶500ml

?一、材料與性能特性?

?化學(xué)穩(wěn)定性?

耐受氫氟酸、王水、硫酸等強(qiáng)腐蝕性試劑，長(zhǎng)期接觸無溶出或析出?56。
金屬雜質(zhì)含量極低（鉛、鈾＜0.01ppb），滿足半導(dǎo)體工藝的ppt級(jí)純度要求?67。
?物理性能?

耐溫范圍覆蓋-200℃至+260℃，可高壓滅菌或液氮保存?56。
表面能低（18-20mN/m），實(shí)現(xiàn)超疏水疏油特性，減少液體殘留?78。
?潔凈度指標(biāo)?

顆粒釋放量（＞0.1μm）＜5個(gè)/cm2，符合SEMI F57標(biāo)準(zhǔn)?7。
通過兆聲波+SPM清洗工藝達(dá)到半導(dǎo)體級(jí)潔凈度?7。
?二、設(shè)計(jì)特點(diǎn)?
?規(guī)格多樣性?

容量覆蓋20ml至4000ml，支持定制（如廣口、窄口、帶螺紋接口等）?25。
廣口設(shè)計(jì)（口內(nèi)徑≥33mm）便于固體取樣和清洗，窄口（口內(nèi)徑≤25mm）減少揮發(fā)損失?8。
?功能優(yōu)化?

適配GL45/GL32標(biāo)準(zhǔn)瓶口，兼容自動(dòng)進(jìn)樣器（如HPLC、GC-MS）?68。
厚壁罐體可集成攪拌、通氣系統(tǒng)，用于多相反應(yīng)或樣品存儲(chǔ)?8。
?三、核心應(yīng)用場(chǎng)景?
?半導(dǎo)體制造?

存儲(chǔ)氫氟酸、TMAH顯影液等濕電子化學(xué)品，保障3nm工藝金屬殘留＜0.01atoms/cm2?7。
用于EUV光刻配套化學(xué)品管理，滿足超低金屬污染控制需求?7。