華諾mask掩模版,金屬狹縫光罩 MASK

加工周期	最快12小時出貨	掩膜板材質(zhì)	不銹鋼、鉭片、各種薄膜等可按客戶要求定制
掩膜版別名	掩膜板、光罩、mask、FMM	掩膜版加工精度	最小10um
掩膜版尺寸	最大600*600mm	掩膜版材質(zhì)厚度	最薄加工厚度0.03mm
特色要求	需要和客服具體溝通

華諾mask掩模版,金屬狹縫光罩 MASK

掩膜版切割主要應用行業(yè)有LED芯片制造，觸摸屏，LCD，消費類電子，半導體，MEMS，照明，等行業(yè)，以及科研、航天航空、電子、機械、光學、石油、化工、汽車、工藝品等行業(yè)。

掩膜版材料及厚度的選?。?br /> 材質(zhì)的選取方面，我們選用高韌性的SUS304 H不銹鋼材料，這樣做出來的掩膜版不但精度高，而且表面光滑，產(chǎn)品不易受彎折而變形，經(jīng)久耐用，同時還能夠讓掩膜版板與器件保持很緊密的貼合，減少陰影效果。

本公司承接各種圖案定制，客戶能提供包含尺寸的CA設計圖。如果畫圖實在有困難，我們可以根據(jù)客戶描述來繪制，同時我們還能對客戶的掩膜版設計提供一些建議。

掩膜版激光加工產(chǎn)品技術：
1，原材料：
原材料生產(chǎn)出的掩模板平整度高線條筆直，剌。華諾精密經(jīng)營掩模板多年，建立完整的原材料進貨渠道。
2，加工設備：
根據(jù)客戶產(chǎn)品的精度要求和圖形形狀，選擇相匹配的設備進行生產(chǎn)，確保滿足客戶要求。華諾精密生產(chǎn)設備齊全，各設備工藝之間能配合。
3，生產(chǎn)技術：
再好的設備都是人來操作的，機器各參數(shù)之間的調(diào)配，軟硬件之間的配合，都是技術的，同樣的機器交給不同技術的廠家，生產(chǎn)出產(chǎn)品質(zhì)量完全不一樣的。華諾精密有著7年的掩模板生產(chǎn)經(jīng)驗，對機器硬件的調(diào)試和軟件的更改有著一套完善的技術儲備。

金屬掩膜板：
在AMOLED制作工藝中，蒸鍍工藝是非常重要的，直接決定產(chǎn)品的良率，而金屬掩膜板又是非常重要的蒸鍍制具，其開口的精度和位置精度直接決定了AMOLED生產(chǎn)的品質(zhì)。金屬掩膜板根據(jù)其用途又可分為兩類：OPEN MASK和FINE METAL MASK（FMM）。OPEN MASK作為普通蒸鍍制具，決定顯示屏的尺寸和在基板上的位置。FMM作為彩色蒸鍍制具，更是決定了顯示畫面的質(zhì)量。

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構成。其圖形結構可通過制版工藝加工獲得，常用加工設備為直寫式光刻設備，如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。
掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統(tǒng)）等。