常州ito殘靶廢靶回收高,2016繼續(xù)大量回收銦

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常州ito殘靶廢靶回收高,2016繼續(xù)大量回收銦

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銦錫復(fù)合氧化物(ITO,Indium and Tin Oxide)膜是銦的主要應(yīng)用領(lǐng)域。在其制備工藝中,產(chǎn)出大量的ITO廢靶需回收處理。

本文研究了銦錫復(fù)合氧化物(ITO)廢靶回收工藝中的浸出過(guò)程,確定了佳浸出工藝條件:溫度363K;浸出后液酸度100 H,2SO,4 gL;浸出時(shí)間120 min;液固比廢靶粉粒度-200目。在此條件下,銦的浸出率大于99.5%,錫的浸出率為8.0%。

在此基礎(chǔ)上,采用硫化沉淀法分離ITO廢靶硫酸浸出液中銦、錫的工藝。平衡計(jì)算證明了硫化沉淀分離銦錫的可行性。

因生產(chǎn)需要長(zhǎng)期面向常州、金壇回收工業(yè)廢銦,ITO靶材廢料,粗銦,金屬銦,銦錠,銦條,銦渣,銦水,銦反萃液,常州回收銦。

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