華諾mask掩模版,微孔微距掩膜版報價及圖片

500元2022-11-16 07:58:25
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加工周期 最快12小時出貨 掩膜板材質(zhì) 不銹鋼、鉭片、各種薄膜等可按客戶要求定制
掩膜版別名 掩膜板、光罩、mask、FMM 掩膜版加工精度 最小10um
掩膜版尺寸 最大600*600mm 掩膜版材質(zhì)厚度 最薄加工厚度0.03mm
特色要求 需要和客服具體溝通  

華諾mask掩模版,微孔微距掩膜版報價及圖片

掩膜夾具極高的精密度,可達±0.05的精度,滿足不同產(chǎn)品的組裝要求,材料越薄,精度控制相對越高。我們可以加工薄0.02厚的掩膜版金屬材料,直至3以內(nèi)厚,都可以實現(xiàn)批量化的生產(chǎn)加工,而且加工的質(zhì)量穩(wěn)定,批次清楚,品控體系嚴格。


掩膜版激光加工產(chǎn)品特點:
  1,可以按設計人員的設計要求進行掩模板圖形的任意更改,方便快捷成本低。
  2,電極掩模板中小的縫隙可以達到0.03(30微米),小線寬可做到0.015(15微米)。
  3,位置精度高可達+/-0.003,解決一塊產(chǎn)品需多層蒸鍍,每層間的重復對位的位置精度。
  4,材料厚度可由客戶,華諾精密長期庫存材料從0.03-0.10,能為客戶提供快速穩(wěn)定的服務。

光刻掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡稱掩膜版,是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構,再通過曝光過程將圖形信息轉移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構成。其圖形結構可通過制版工藝加工獲得,常用加工設備為直寫式光刻設備,如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。
掩膜版應用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機電系統(tǒng))等。

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