江蘇南通生產光譜儀

價格面議2022-03-02 12:06:04
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江蘇南通生產光譜儀

M4型全譜直讀光譜儀采用標準的設計和制造工藝技術,全數(shù)字化及互聯(lián)網(wǎng)技術結合,運用高分辯率CMOS檢測器,精密設計的氬氣吹掃系統(tǒng),使儀器具有較高的性能、較低的成本、以及極具竟爭力的價格。


M4應用于多基體的、高性能的全譜直讀光譜儀

01 優(yōu)異的分析性能、非常緊湊的儀器結構

02 用于多種基體、多種材料的分析,分析范圍覆蓋了幾乎所有的重要元素,可以滿足絕大多數(shù)現(xiàn)代鑄造業(yè)的應用需求。

03 高亮度全息光柵具備3600條/mm刻線,使得分光系統(tǒng)具有高的分辯率。

04 氬氣吹掃光室配置了優(yōu)化設計的低流速吹氬系統(tǒng),既保證低的使用成本又保證紫外區(qū)的透過率。

05 應用高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng),較低的暗電流、較好的檢出限、較高的穩(wěn)定性、較強的靈敏度。

06 全數(shù)字化的智能復合光源DDD技術,充分滿足不同基體、不同樣品以及不同元素的激發(fā)要求。

07 一體式開放火花臺,可以滿足各種不同樣品結構的分析。

08 配置多條工廠校正曲線及更多的材料分析方法和先進的解決方案。

09 可根據(jù)用戶的材料要求,延長標準曲線的測量上、下限。


精密設計的氬氣吹掃系統(tǒng)

光室密封性強,可保持內部氬氣長期純凈。

光室空間優(yōu)化設計,降低氬氣消耗,有效節(jié)約產生成本。

低氬氣吹掃系統(tǒng),確保光室UV波段測量環(huán)境。

光室充氬免除復雜的真空系統(tǒng)。


高分辯率CMOS檢測器實現(xiàn)全譜分析

譜線覆蓋了所有的重要元素,滿足所有基體和材料的分析。

高靈敏的紫外區(qū)檢測,對N的分析檢測更準確。

可有效選擇元素靈敏線,保證分析的準確度。

多峰擬合技術,有效消除譜線干擾,實現(xiàn)精準測量。


分析軟件功能強大

1)基于Windows系統(tǒng)的多國語言的CCD全譜圖形化分析軟件,方便實用;

2)全方位管理的控制整個測量過程及為用戶提供強大的數(shù)據(jù)處理能力和測試報告輸出能力;

3)儀器可配置多條工廠校正曲線及更多材質分析及先進解決方案;

4)軟件實現(xiàn)全譜檢測、智能扣干擾、扣暗電流、背景和噪聲的算法,提高儀器的分析能力;

5)完備的自動系統(tǒng)診斷功能;

6)完善的數(shù)據(jù)庫管理功能,可方便查詢、匯總數(shù)據(jù);

7)智能校正算法,保證儀器穩(wěn)定可靠;

8)完備的譜線信息和干擾扣除算法,保證儀器分析更為精準;

9)適應Windows操作系統(tǒng)。

Y-9000型全譜直讀光譜儀采用標準的設計和制造工藝技術,采用全數(shù)字化技術,替代龐大的光電倍增管(PMT)模擬技術,采用真空光室設計及全數(shù)字激發(fā)光源、CMOS檢測器,高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng),使儀器具有較高的性能、較低檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。

主要技術參數(shù):光學系統(tǒng):帕型)-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng);

波長范圍:170nm~580nm

焦距:400mm

探測器:高性能CCD陣列

光源類型:數(shù)字光源,高能預燃技術(HEPS)

放電頻率:100-1000Hz

放電電流:400A

工作電源:220VAC 50/60Hz

儀器尺寸:720*860*500

儀器重量:約100kg(不含真空系統(tǒng))

檢測時間:依據(jù)樣品類型而定,一般25S左右

電極:鎢材噴射電

光學恒溫:34℃± 0.3℃

氬氣要求:99.999%

氬氣進口壓力:0.5MPa

氬氣流量:激發(fā)流量約3.5L/min

工作溫度:10℃~35℃

工作濕度:20%~85%

分析間隙:真空軟件自動控制、監(jiān)測

智能集成氣路模塊

智能氬氣流設計及粉塵收集清理裝置

氬氣噴射技術,有效消除激發(fā)過程中等離子體的飄移,確保CCD檢測器能夠觀測高溫區(qū)域光信號,提高精度和穩(wěn)定性。

激發(fā)后,脈沖式氬氣吹掃,提高粉塵去除效果,提升儀器的短期和長期穩(wěn)定性。

金屬材料領域先進的全譜直讀光譜儀

檢測基體:鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

全新立式全譜光譜采用標準的設計和制造工藝技術,采用全數(shù)字技術,替代龐大的光電倍增管(PMT)模擬技術,采用真空光學室設計及全數(shù)字激發(fā)光源、CCD檢測器,高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng),使儀器具有較高的性能、較低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設備之一。

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