準(zhǔn)測(cè)無鹵分析儀,江蘇泰州光譜儀廠家

準(zhǔn)測(cè)無鹵分析儀,江蘇泰州光譜儀廠家

主要技術(shù)參數(shù)

項(xiàng)目

M4

檢測(cè)基體

多基體

光學(xué)系統(tǒng)

帕型-龍格結(jié)構(gòu)

光室結(jié)構(gòu)

充氬循環(huán)方式

波長(zhǎng)范圍

165-580nm（可擴(kuò)展）

光柵焦距

300mm

光柵刻線

3600條/mm

探 測(cè) 器

多CMOS檢測(cè)器

光源類型

可編程脈沖數(shù)字光源

儀器尺寸

714*558*270

儀器重量

40Kg

技術(shù)特點(diǎn)：

1、高性能光學(xué)系統(tǒng)

《1》光學(xué)系統(tǒng)激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光學(xué)室，實(shí)現(xiàn)光路 直通，有效的降低光路損耗；

《2》高性能光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)及采用高精度的光學(xué)元件可精確測(cè)定非金屬元素中C、P、S、N以及各種元素含量；

《3》測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)及長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

2、自動(dòng)光路校準(zhǔn)

《1》自動(dòng)光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作；

《2》儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定。

3、單板式透鏡設(shè)計(jì)

《1》真空光學(xué)系統(tǒng)采用獨(dú)特的入射窗與真空隔離，可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進(jìn)行操作，光學(xué)透鏡采用單板式透鏡結(jié)構(gòu)，日常清洗維護(hù)方便快捷。

《2》在日常工作中儀器無需維護(hù)，也沒有消耗品及更換零部件。

4、真空室一體化

《1》獨(dú)特的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半。

《2》真空室一體化設(shè)計(jì)及高精密的加工，使真空保持的更加持久。

5、真空防返油技術(shù)

《1》多級(jí)隔離的真空防返油技術(shù)，采用真空壓緊、擋板閥保證真空泵不工作時(shí)間真空光室與真空完全隔離。

《2》中間增加了真空濾油裝置，確保真空泵中油不進(jìn)入真空室，保障CCD檢測(cè)器及光學(xué)元件在可靠環(huán)境中工作。

6、開放式激發(fā)臺(tái)

《1》開放式激發(fā)臺(tái)機(jī)靈活的樣品夾設(shè)計(jì)，以滿足客戶現(xiàn)場(chǎng)的各種形狀大小的樣品分析。

《2》配合使用小樣品夾具，線材分析可達(dá)到1.5mm。

7、噴射電極技術(shù)：

《1》采用先進(jìn)的噴射電極技術(shù)，使用鎢材料電極，在激發(fā)狀態(tài)下，電極周圍會(huì)形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點(diǎn)周圍不會(huì)與外界空氣接觸，提高激發(fā)精度。

《2》配上獨(dú)特氬氣氣路設(shè)計(jì)，大大降低了氬氣使用量，也降低客戶使用成本。

8、集成氣路模塊

《1》激發(fā)臺(tái)采用散熱性能好的合金材料制作，不僅堅(jiān)固、耐用而且清潔方便。

《2》供氣系統(tǒng)采用集成氣路模塊，電極自吹掃功能，為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。

9、全數(shù)字化激發(fā)光源：

《1》全數(shù)字激發(fā)光源，采用先進(jìn)的等離子激發(fā)光源，超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。

《2》全數(shù)字激發(fā)脈沖，確保激發(fā)樣品等離子體超高分辨率和高穩(wěn)定率輸出。

《3》滿足各種不同材料的激發(fā)要求。

10、高速數(shù)據(jù)采集：

《1》儀器采用高性能CCD器件，紫外鍍膜技術(shù)及高性能FPGA、ＤＳＰ及ＡＲＭ處理器。
《２》具有高速數(shù)據(jù)采集分析功能，并能自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀態(tài)。

11、以太數(shù)據(jù)傳輸：

《１》計(jì)算機(jī)和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議，避免電磁干擾，光纖老化的弊端，同時(shí)計(jì)算機(jī)和打印機(jī)完全外置，方便升級(jí)和更換。

《2》完備的網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)。

《3》可以遠(yuǎn)程監(jiān)控儀器狀態(tài)，多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數(shù)。

12、預(yù)制工作曲線：

《1》根據(jù)元素和材質(zhì)對(duì)應(yīng)的分析程序而稍有差異，激發(fā)和測(cè)試參數(shù)儀器出廠時(shí)已經(jīng)調(diào)節(jié)好，根據(jù)分析程序可自動(dòng)選擇測(cè)試條件。

《2》長(zhǎng)期以來工廠積累了大量的經(jīng)驗(yàn)以及全面的標(biāo)樣庫(kù)，儀器出廠時(shí)工廠預(yù)制工作曲線，使用戶拿到儀器后可投入使用。

《3》技術(shù)規(guī)格中附有分析范圍（并可根據(jù)用戶提供標(biāo)樣免費(fèi)繪制或延長(zhǎng)工作曲線）。

13、分析速度快捷：

《1》分析速度快捷，為客戶節(jié)約了寶貴的時(shí)間，20秒內(nèi)可測(cè)完所有通道的元素成分。

《2》針對(duì)不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及測(cè)量時(shí)間，使儀器短時(shí)間達(dá)到分析效果。

14、多基體分析

《1》光路設(shè)計(jì)采用羅欄園結(jié)構(gòu)，CCD上下交替排列，保證接收全部的譜線，不增加硬件設(shè)施，即可實(shí)現(xiàn)多基體分析。

《2》便于根據(jù)生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類和分析元素。

《3》相比光電倍（PMT）光譜儀可大大減低使用成本及使用范圍。

15、軟件多國(guó)語(yǔ)言

《1》儀器操作軟件完全兼容于Windows系統(tǒng)，同時(shí)可以根據(jù)客戶需求配備各種語(yǔ)言版本。
《2》軟件操作簡(jiǎn)單，即使沒有任何光譜儀知識(shí)及操作經(jīng)驗(yàn)的人員只需經(jīng)過簡(jiǎn)單的知識(shí)培訓(xùn)即可上手使

直讀光譜儀是目前較為成熟的材料檢測(cè)儀器，具有分析速度快、準(zhǔn)確、檢測(cè)下限低等特點(diǎn)。而且可以對(duì)C、P、S、N等非金屬元素的檢測(cè)。因此在金屬材料檢測(cè)領(lǐng)域中具有重要的作用。

智能數(shù)字激發(fā)光源

全數(shù)字化智能復(fù)合光源DDD技術(shù)，帶來優(yōu)越分析性能。

緊湊的設(shè)計(jì)及半導(dǎo)體控制技術(shù)，使得光源具有較好的穩(wěn)定性、更強(qiáng)的可靠性。

高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS),激發(fā)參數(shù)調(diào)整，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求。

全新立式全譜光譜采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術(shù)，采用真空光學(xué)室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源、領(lǐng)先的ＣＣＤ檢測(cè)器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有高的性能、低的檢出線、長(zhǎng)期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號(hào)識(shí)別、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一。

特點(diǎn)


√ 快速合金牌號(hào)鑒定

√ 檢測(cè)時(shí)間只需要一秒

√ 金屬分類的理想選擇

√ 檢測(cè)材料內(nèi)各類元素的含量及牌號(hào)判定(PMI)

√ 無輻射, 低維護(hù)成本

√ 優(yōu)勢(shì)是測(cè)Li, Mg, Al, Si