華諾mask掩膜板,304不銹鋼蒸鍍光罩 MASK

加工周期	最快12小時(shí)出貨	掩膜板材質(zhì)	不銹鋼、鉭片、各種薄膜等可按客戶要求定制
掩膜版別名	掩膜板、光罩、mask、FMM	掩膜版加工精度	最小10um
掩膜版尺寸	最大600*600mm	掩膜版材質(zhì)厚度	最薄加工厚度0.03mm
特色要求	需要和客服具體溝通

華諾mask掩膜板,304不銹鋼蒸鍍光罩 MASK

掩膜版的加工種類：
華諾激光長(zhǎng)期供應(yīng)高精度電極掩模板加工制作，不銹鋼掩膜板，精密金屬非金屬掩模板制作，非金屬掩膜板制作，微孔掩膜板制作，光刻直寫掩膜板制作 金屬和非金屬掩膜板制作加工，掩膜板小孔可做到50微米，精度也可做到20微米，掩膜板刻線，小線寬可做到20微米，價(jià)格實(shí)惠，量大從優(yōu)。

掩膜版材料及厚度的選?。?br /> 材質(zhì)的選取方面，我們選用高韌性的SUS304 H不銹鋼材料，這樣做出來(lái)的掩膜版不但精度高，而且表面光滑，產(chǎn)品不易受彎折而變形，經(jīng)久耐用，同時(shí)還能夠讓掩膜版板與器件保持很緊密的貼合，減少陰影效果。

掩膜版激光加工產(chǎn)品特點(diǎn):
　　1，可以按設(shè)計(jì)人員的設(shè)計(jì)要求進(jìn)行掩模板圖形的任意更改，方便快捷成本低。
　　2，電極掩模板中小的縫隙可以達(dá)到0.03(30微米)，小線寬可做到0.015(15微米)。
　　3，位置精度高可達(dá)+/-0.003，解決一塊產(chǎn)品需多層蒸鍍，每層間的重復(fù)對(duì)位的位置精度。
　　4，材料厚度可由客戶，華諾精密長(zhǎng)期庫(kù)存材料從0.03-0.10，能為客戶提供快速穩(wěn)定的服務(wù)。

掩膜版激光加工產(chǎn)品技術(shù)：
1，原材料：
原材料生產(chǎn)出的掩模板平整度高線條筆直，剌。華諾精密經(jīng)營(yíng)掩模板多年，建立完整的原材料進(jìn)貨渠道。
2，加工設(shè)備：
根據(jù)客戶產(chǎn)品的精度要求和圖形形狀，選擇相匹配的設(shè)備進(jìn)行生產(chǎn)，確保滿足客戶要求。華諾精密生產(chǎn)設(shè)備齊全，各設(shè)備工藝之間能配合。
3，生產(chǎn)技術(shù)：
再好的設(shè)備都是人來(lái)操作的，機(jī)器各參數(shù)之間的調(diào)配，軟硬件之間的配合，都是技術(shù)的，同樣的機(jī)器交給不同技術(shù)的廠家，生產(chǎn)出產(chǎn)品質(zhì)量完全不一樣的。華諾精密有著7年的掩模板生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，對(duì)機(jī)器硬件的調(diào)試和軟件的更改有著一套完善的技術(shù)儲(chǔ)備。

如何才能保證激光精密切割加工金屬掩膜板的好品質(zhì)？
1. 客戶要找到一家資質(zhì)齊全的金屬掩膜板激光精密切割加工廠。只有資質(zhì)齊全的激光精密切割工廠，相應(yīng)的設(shè)備，包括激光精密切割設(shè)備，紅外、紫外、綠光、二氧化碳等激光設(shè)備，二次元影像儀設(shè)備，無(wú)塵潔凈室等，以及的操作人員都很重要。
2. 體系是否完備？不要認(rèn)為ISO9001和ISO14001是個(gè)擺設(shè)，真正完全做到7S標(biāo)準(zhǔn)的工廠，永遠(yuǎn)都是規(guī)范整潔的工廠。就像客戶常和我們說(shuō)的：一個(gè)規(guī)范整潔的工廠，相信做的產(chǎn)品也不會(huì)差到哪里去。
3. 客戶服務(wù)是否完備？服務(wù)客戶就是幫助客戶，服務(wù)客戶就是幫助客戶解決問題。積極提供各種解決方案，業(yè)務(wù)人員主動(dòng)提出解決問題的方案，是取得客戶信任的要件，不要一味的點(diǎn)頭，說(shuō)是。主動(dòng)發(fā)現(xiàn)問題，預(yù)防問題才是做好相關(guān)產(chǎn)品的為根本的要件！
4. 細(xì)節(jié)有無(wú)到位？細(xì)節(jié)決定成敗！激光精密切割加工的產(chǎn)品我們要保證每個(gè)細(xì)節(jié)，每個(gè)關(guān)鍵尺寸的準(zhǔn)確，檢測(cè)到位，保證符合客戶的工程圖紙的要求，不能馬虎了事。
5. 供應(yīng)商的穩(wěn)定性也是保證激光精密切割加工的品質(zhì)的重要一環(huán)。材料材質(zhì)穩(wěn)定有保證，是加工好產(chǎn)品的前提。華諾普銳斯的材料進(jìn)貨渠道都是正規(guī)大的鋼材壓延廠直供，材質(zhì)穩(wěn)定，環(huán)保達(dá)標(biāo)，萬(wàn)不可為節(jié)省小成本，造成大失??！

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。