射頻離子源：鍍膜中幾種普遍的離子源

盡管離子源的類(lèi)型很多，但其目的無(wú)非是在線清理，以改善電鍍表層的能量分布并增加反應(yīng)氣體的能量。射頻離子源：離子源可以極大地改善膜與基底的結(jié)合強(qiáng)度，并且膜本身的硬度和耐磨性也將得到改善。如果是工具耐磨層，則厚度通常較大并且膜厚度的均勻性不高?？梢允褂镁哂写箅x子電流和高能級(jí)的離子源，例如霍爾離子源或陽(yáng)極層離子源。

射頻離子源：陽(yáng)極層離子源類(lèi)似于霍爾離子源。在環(huán)形（矩形或圓形）狹窄的縫隙中施加強(qiáng)磁場(chǎng)，在陽(yáng)極的作用下，工作氣體被電離并向工件噴射。陽(yáng)極層離子源可以做得非常大和非常長(zhǎng)，特別適合于電鍍大型工件，例如建筑玻璃。陽(yáng)極層離子源的離子源電流也很大。但是它的離子電流更發(fā)散，能級(jí)分布太寬。通常適用于大型工件，玻璃，磨損和裝飾性工件。但這對(duì)于高級(jí)光學(xué)涂料而言并不過(guò)分。

射頻離子源：考夫曼離子源是較早的離子源。屬于網(wǎng)格離子源。首先，陰極在離子源腔中生成等離子體，然后通過(guò)兩層或三層陽(yáng)極格柵從等離子體室中提取離子。該離子源產(chǎn)生的離子具有較強(qiáng)的方向性和集中的離子能帶寬，可廣泛用于真空鍍膜。缺點(diǎn)是陰極（通常是鎢絲）會(huì)在反應(yīng)氣體中迅速燃燒掉。另外，離子流具有限制，這對(duì)于需要大離子流的用戶可能不舒服。

在射頻離子源:霍爾離子源中，陽(yáng)極在強(qiáng)軸向磁場(chǎng)的作用下使工藝氣體等離子體化。該軸向磁場(chǎng)的強(qiáng)烈不平衡使氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場(chǎng)太強(qiáng)，霍爾離子源的離子束需要補(bǔ)充電子來(lái)中和離子流。普遍的中和來(lái)源是鎢絲（陰極）?；魻栯x子源的特色是：

1簡(jiǎn)單耐用。

2離子電流幾乎與氣體流速成正比，因此可以獲得較大的離子電流。

3鎢絲通常會(huì)跨過(guò)出口，并且離子束的沖擊會(huì)迅速侵蝕，特別是對(duì)于反應(yīng)氣體，通常需要在十小時(shí)內(nèi)更換。而且鎢絲也會(huì)有一定的污染。解決了鎢絲的缺點(diǎn)。有更長(zhǎng)壽命的中和器，例如小型空心陰極源。